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PVD・CVD入門編
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光CVDプロセス
　CVDは、膜材料が気体で供給され、気相の中で基板（基材）表面の化学反応により成膜が行われるため化学的気相成長(CVD: Chemical Vapor Deposition)と呼ばれます。
　 光CVDは、光のエネルギーで反応ガスを分解し、低温で膜形成が行うことができます。光源は、ガスの分解に必要な化学結合エネルギーを超えるエネルギーを持つ波長の光を用いており、ハロゲンランプなどが用いられています。レーザを利用した場合は、レーザを強調してレーザCVDと呼ばれています。