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	バッチ式縦型CVD装置(円筒型)
	円筒形の縦型CVD成膜装置は、基板を地面と垂直にホルダーに固定して、ガスの流れる方向が垂直方向からの場合を指します。内部の回転軸からガスを放射状に流す場合もあります。ホルダーにヒータ等の加熱機構を有して、円筒全体を加熱するのが通常です。 　バッチ式は、一度反応管に基板をセットすると成膜処理が終了するまで取り出さずに、成膜する方式をいいます。
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