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	バッチ式縦型CVD装置(基板水平型)
	縦型CVD成膜装置は、基板を水平にしてホルダーやサセプタの上に並べ、ガスの流れる方向が垂直方向からの場合を指します。MOCVDなどの石英反応管を使う場合ではサセプタを高周波で加熱するために巻いたコイルで囲うことが多いですが、反応管を冷却するために水冷している場合をコールドウォール･タイプ、水冷しないで加熱させたものをホットウォール･タイプと呼んでいます。 　バッチ式は、一度反応管に基板をセットすると成膜処理が終了するまで取り出さずに、成膜する方式をいいます。
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