このページはJavaScriptを使用しています。ブラウザのJavaScript機能をオンにしてご覧ください。
PVD・CVDデータベース
TOP
>>
PVD・CVD概論
>>
方式・型式
>> バッチ式縦型PVD装置(垂直円筒型)
概論目次へ
バッチ式縦型PVD装置(垂直円筒型)
円筒形の縦型PVD成膜装置は、基板を地面と垂直にホルダーに固定し、外周にスパッタリングターゲットや蒸着のための蒸発源を1箇所に広い範囲で、または数箇所に設置したり、ときには酸化させるためにプラズマ源を置いて、回転させながら成膜することで、膜の組成を制御したり、化合物を成膜させたりします。
バッチ式は、一度反応管に基板をセットすると成膜処理が終了するまで取り出さずに、成膜する方式をいいます。
<<前へ
|
方式・型式へ
|
次へ>>